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Fórmula do material de isolamento e processo de produção

Enlarged font  Narrow font Release date:2021-01-09  Browse number:967
Note: Resfrie abaixo de 50 ° C, adicione o agente de cura, mantenha a temperatura não mais do que 50 ° C, degasifique o grau de vácuo -0,1 MPa, tempo de mistura não mais do que 30 min, e então entre no processo de fundição.


A. Material de isolamento de baixa tensão
1.1 Fórmula
Resina epóxi E-44 100
Diluente Dibromofenil glicidil éter 20
Trióxido de antimônio 10 retardador de chama
Pó de sílica ativa 400 mesh 200
Agente de cura 593 25
Dietilenotriamina 3
1.2 Processo de produção
1.2.1 Pó de silício seco para o teor de umidade abaixo de 0,2%
1.2.2 Adicionar resina epóxi, diluente, retardante de chama e pó de silício ao reator na seguinte ordem
1.2.3 Aumente a temperatura para 100 ℃, desgaseifique a mistura sob vácuo de -0,1 MPa por 30 minutos para uniformidade
1.2.4 Resfrie abaixo de 50 ° C, adicione o agente de cura, mantenha a temperatura não mais do que 50 ° C, degasifique o grau de vácuo -0,1 MPa, tempo de mistura não mais do que 30 min, e então entre no processo de fundição.


B. Materiais de isolamento de alta e baixa tensão
2.1 Formulação
Resina epóxi E-44 100
Diluente Dibromofenil glicidil éter 20
Trióxido de antimônio 10 retardador de chama
Pó de sílica ativa 400 mesh 300
Agente de cura S101 95
Acelerador DMP-30 1.5
2.2 Processo de produção
2.2.1 Pó de silício seco para o teor de umidade abaixo de 0,2%
2.2.2 Faça um dois componentes na seguinte ordem
Uma resina epóxi componente, acelerador, retardador de chama, pó de silício 200
Agente de cura do componente B, diluente, pó de silício 100
2.2.3 O componente A é aquecido a 80-100 ℃, e a mistura é desgaseificada sob vácuo de -0,1 MPa por 30 min até a uniformidade
2.2.4 A temperatura do componente B é elevada para 50 ℃, e a mistura é desgaseificada sob vácuo de -0,1 MPa por 30 minutos para uniformidade
2.2.5 Resfrie abaixo de 50 ℃, adicione o componente A ao componente B, mantenha a temperatura não superior a 50 ℃, degasifique o grau de vácuo -0,1 MPa, tempo de mistura 30min, você pode inserir o derramamento.
 
 
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