A. Mababang boltahe pagkakabukod materyal
1.1 Formula
Epoxy dagta E-44 100
Diluent Dibromophenyl glycidyl ether 20
Retardant ng antimonya ng antimonya ng trioxide 10
Aktibong silica pulbos 400 mesh 200
Ang ahente ng paggamot 593 25
Diethylenetriamine 3
1.2 Proseso ng produksyon
1.2.1 dry silicon pulbos sa kahalumigmigan nilalaman sa ibaba 0.2%
1.2.2 Magdagdag ng epoxy dagta, mas payat, retardant ng apoy, at pulbos ng silikon sa reactor sa sumusunod na pagkakasunud-sunod
1.2.3 Itaas ang temperatura sa 100 ℃, degas ang timpla sa ilalim ng -0.1Mpa vacuum para sa 30min hanggang sa pagkakapareho
1.2.4 Cool sa ibaba 50 ° C, magdagdag ng ahente ng paggamot, panatilihin ang temperatura na hindi hihigit sa 50 ° C, degas vacuum degree -0.1Mpa, paghahalo ng oras na hindi hihigit sa 30min, pagkatapos ay ipasok ang proseso ng paghahagis.
B. Mga materyales sa mataas na boltahe at mababang boltahe na pagkakabukod
2.1 Pagbubuo
Epoxy dagta E-44 100
Diluent Dibromophenyl glycidyl ether 20
Retardant ng antimonya ng antimonya ng trioxide 10
Aktibong silica pulbos 400 mesh 300
Ahente sa paggamot ng S101 95
Accelerator DMP-30 1.5
2.2 Proseso ng produksyon
2.2.1 tuyong silicon pulbos sa kahalumigmigan nilalaman sa ibaba 0.2%
2.2.2 Gumawa ng isang dalawang-sangkap sa sumusunod na pagkakasunud-sunod
Ang isang sangkap ng epoxy dagta, accelerator, retardant ng apoy, pulbos ng silikon 200
Ahente ng panggagamot ng sangkap ng B, mas payat, pulbos ng silikon 100
2.2.3 Ang Isang bahagi ay pinainit sa 80-100 ℃, at ang halo ay na-degass sa ilalim ng -0.1Mpa vacuum para sa 30min hanggang sa pagkakapareho
2.2.4 Ang temperatura ng sangkap B ay itataas sa 50 ℃, at ang halo ay na-degass sa ilalim ng -0.1Mpa vacuum para sa 30min hanggang sa pagkakapareho
2.2.5 Cool sa ibaba 50 ℃, magdagdag ng bahagi A sa sangkap B, panatilihin ang temperatura na hindi hihigit sa 50 ℃, degas vacuum degree -0.1Mpa, oras ng paghahalo ng 30min, maaari mong ipasok ang pagbuhos.
