A. Materiale isolante a bassa tensione
1.1 Formula
Resina epossidica E-44100
Diluente Dibromofenil glicidil etere 20
Triossido di antimonio ritardante di fiamma 10
Polvere di silice attiva 400 mesh 200
Agente indurente 593 25
Dietilentriammina 3
1.2 Processo di produzione
1.2.1 Polvere di silicio secca al contenuto di umidità inferiore allo 0,2%
1.2.2 Aggiungere resina epossidica, diluente, ritardante di fiamma e polvere di silicio al reattore nell'ordine seguente
1.2.3 Aumentare la temperatura a 100 ℃, degassare la miscela sotto vuoto di -0,1 MPa per 30 minuti fino all'uniformità
1.2.4 Raffreddare fino a una temperatura inferiore a 50 ° C, aggiungere agente indurente, mantenere la temperatura non superiore a 50 ° C, grado di vuoto degasato -0,1 MPa, tempo di miscelazione non superiore a 30 minuti, quindi entrare nel processo di colata.
B. Materiali isolanti ad alta e bassa tensione
2.1 Formulazione
Resina epossidica E-44100
Diluente Dibromofenil glicidil etere 20
Triossido di antimonio ritardante di fiamma 10
Polvere di silice attiva 400 mesh 300
Agente indurente S101 95
Acceleratore DMP-30 1.5
2.2 Processo di produzione
2.2.1 Polvere di silicio secca al contenuto di umidità inferiore allo 0,2%
2.2.2 Realizzare un bicomponente nel seguente ordine
Resina epossidica componente, accelerante, ritardante di fiamma, polvere di silicone 200
Agente indurente componente B, diluente, polvere di silicone 100
2.2.3 Il componente A viene riscaldato a 80-100 ℃ e la miscela viene degassata sotto vuoto di -0,1 MPa per 30 minuti fino all'uniformità
2.2.4 La temperatura del componente B viene aumentata a 50 ℃ e la miscela viene degasata sotto vuoto di -0,1 MPa per 30 minuti fino all'uniformità
2.2.5 Raffreddare a meno di 50 ℃, aggiungere il componente A al componente B, mantenere la temperatura non superiore a 50 ℃, grado di vuoto degasato -0,1 Mpa, tempo di miscelazione 30 min, è possibile immettere il getto.
