න්යෂ්ටික කාරකය

න්‍යෂ්ටික කාරකය පොලිඑතිලීන් සහ පොලිප්‍රොපිලීන් වැනි අසම්පූර්ණ ස් stal ටික ප්ලාස්ටික් සඳහා සුදුසු වේ. දුම්මලවල ස් st ටිකරූපීකරණ හැසිරීම වෙනස් කිරීමෙන්, එය ස් st ටිකරූපීකරණ වේගය වේගවත් කිරීමට, ස් stal ටික dens නත්වය වැඩි කිරීමට සහ ස් stal ටික ධාන්ය ප්‍රමාණය කුඩා කිරීම ප්‍රවර්ධනය කිරීමට හැකි වන අතර එමඟින් අච්චු චක්‍රය කෙටි කිරීමට සහ විනිවිදභාවය සහ මතුපිට වැඩි දියුණු කිරීමට භෞතික හා යාන්ත්‍රික සඳහා නව ක්‍රියාකාරී ආකලන ග්ලොස්, ආතන්ය ශක්තිය, දෘඩතාව, තාප විකෘති උෂ්ණත්වය, බලපෑම් ප්‍රතිරෝධය සහ ක්‍රිප් ප්‍රතිරෝධය වැනි ගුණාංග.

න්‍යෂ්ටික කාරකයක් එකතු කිරීමෙන් ස් stal ටිකරූපී පොලිමර් නිෂ්පාදනයේ ස් st ටිකරූපීකරණ වේගය සහ ස් cry ටිකරූපීකරණ මට්ටම ඉහළ නැංවිය හැකි අතර, සැකසුම් හා අච්චු වේගය වැඩි කිරීමට පමණක් නොව, ද්විතියික ස් st ටිකරූපීකරණයේ සංසිද්ධිය බෙහෙවින් අඩු කිරීමටත්, එමඟින් නිෂ්පාදනයේ මානයන්හි ස්ථායිතාව වැඩි කිරීමටත් හැකි වේ. .

නිෂ්පාදන කාර්ය සාධනය කෙරෙහි න්යෂ්ටික කාරකයේ බලපෑම

න්‍යෂ්ටික කාරකය එකතු කිරීම පොලිමර් ද්‍රව්‍යයේ ස් stal ටිකරූපී ගුණාංග වැඩි දියුණු කරන අතර එය පොලිමර් ද්‍රව්‍යයේ භෞතික හා සැකසුම් ගුණාංග කෙරෙහි බලපායි.

01 ආතන්ය ශක්තිය හා නැමීමේ ශක්තිය කෙරෙහි බලපෑම් කිරීම

ස් stal ටිකරූපී හෝ අර්ධ ස් stal ටිකරූපී බහු අවයවික සඳහා, න්‍යෂ්ටික කාරකයක් එකතු කිරීම බහු අවයවයේ ස් st ටිකතාව වැඩි කිරීමට ප්‍රයෝජනවත් වන අතර බොහෝ විට ශක්තිමත් කිරීමේ බලපෑමක් ඇති කරයි, එමඟින් බහු අවයවයේ දෘඩතාව, ආතන්ය ශක්තිය සහ නැමීමේ ශක්තිය සහ මාපාංකය වැඩි කරයි. , නමුත් විවේකයේ දිගුව සාමාන්‍යයෙන් අඩු වේ.

බලපෑම් ශක්තියට ප්‍රතිරෝධය

පොදුවේ ගත් කල, ද්‍රව්‍යයේ ආතන්ය හෝ නැමීමේ ශක්තිය වැඩි වන විට, බලපෑමේ ශක්තිය නැති වී යයි. කෙසේ වෙතත්, න්‍යෂ්ටික කාරකය එකතු කිරීමෙන් පොලිමර් වල ගෝලාකාර ප්‍රමාණය අඩු වන අතර එමඟින් පොලිමර් හොඳ බලපෑම් ප්‍රතිරෝධයක් පෙන්නුම් කරයි. උදාහරණයක් ලෙස, පීපී හෝ පීඒ අමුද්‍රව්‍ය සඳහා සුදුසු න්‍යෂ්ටික කාරකයක් එකතු කිරීමෙන් ද්‍රව්‍යයේ බලපෑම් ශක්තිය 10-30% කින් වැඩි කළ හැකිය.

03 දෘශ්‍ය ක්‍රියාකාරිත්වයට බලපෑම් කිරීම

පීසී හෝ පීඑම්එම්ඒ වැනි සාම්ප්‍රදායික පාරදෘශ්‍ය බහු අවයවික සාමාන්‍යයෙන් අ or ාත පොලිමර් වන අතර ස් stal ටිකරූපී හෝ අර්ධ ස් stal ටිකරූපී බහු අවයවික සාමාන්‍යයෙන් පාරාන්ධ වේ. න්යෂ්ටික කාරක එකතු කිරීම මගින් පොලිමර් ධාන්යවල ප්රමාණය අඩු කළ හැකි අතර ක්ෂුද්ර ස් stal ටික ව්යුහයේ ලක්ෂණ ඇත. එමඟින් නිෂ්පාදනයට පාරභාසක හෝ සම්පූර්ණයෙන්ම පාරදෘශ්‍යතාවයේ ලක්ෂණ පෙන්විය හැකි අතර ඒ සමඟම නිෂ්පාදනයේ මතුපිට නිමාව වැඩි දියුණු කළ හැකිය.

පොලිමර් අච්චු සැකසුම් කාර්ය සාධනය කෙරෙහි බලපෑම්

පොලිමර් අච්චු සැකසීමේ ක්‍රියාවලියේදී, පොලිමර් දියවීම වේගවත් සිසිලන අනුපාතයක් ඇති නිසාත්, පොලිමර් අණුක දාමය මුළුමනින්ම ස් st ටිකරූපී වී නොමැති නිසාත්, සිසිලන ක්‍රියාවලියේදී එය හැකිලීමට හා විරූපණයට හේතු වන අතර අසම්පූර්ණ ස් st ටිකරූපී බහු අවයවයේ දුර්වල මාන ස්ථායිතාවයක් ඇත. ක්‍රියාවලිය අතරතුර ප්‍රමාණයෙන් හැකිලීමද පහසුය. න්යෂ්ටික කාරකයක් එකතු කිරීමෙන් ස් st ටිකරූපීකරණ වේගය වේගවත් කිරීමට, අච්චු කාලය කෙටි කිරීමට, නිෂ්පාදන කාර්යක්ෂමතාව වැඩි කිරීමට සහ නිෂ්පාදනයේ පශ්චාත් හැකිලීමේ මට්ටම අඩු කිරීමට හැකිය.

න්යෂ්ටික කාරක වර්ග

01 α ස් stal ටික න්‍යෂ්ටික කාරකය

 එය ප්‍රධාන වශයෙන් නිෂ්පාදනයේ විනිවිදභාවය, මතුපිට ග්ලොස්, දෘඩතාව, තාප විකෘති උෂ්ණත්වය යනාදිය වැඩි දියුණු කරයි. එය විනිවිද පෙනෙන කාරකයක්, සම්ප්‍රේෂණ වැඩි දියුණු කරන්නෙකු සහ දෘඩකාරකයක් ලෙසද හැඳින්වේ. ප්‍රධාන වශයෙන් ඩිබෙන්සයිල් සෝර්බිටෝල් (ඩී.බී.එස්) සහ එහි ව්‍යුත්පන්නයන්, ඇරෝමැටික පොස්පේට් එස්ටර් ලවණ, ආදේශක බෙන්සොයිට් යනාදිය ඇතුළත් වේ. විශේෂයෙන් ඩී.බී.එස්. ඇල්ෆා ස් stal ටික න්‍යෂ්ටික කාරක ඒවායේ ව්‍යුහය අනුව අකාබනික, කාබනික සහ සාර්ව අණු ලෙස බෙදිය හැකිය.

02 අකාබනික

අකාබනික න්‍යෂ්ටික කාරක ප්‍රධාන වශයෙන් ටැල්ක්, කැල්සියම් ඔක්සයිඩ්, කාබන් කළු, කැල්සියම් කාබනේට්, මයිකා, අකාබනික වර්ණක, කාඕලින් සහ උත්ප්‍රේරක අපද්‍රව්‍ය ඇතුළත් වේ. මේවා පැරණිතම ලාභ හා ප්‍රායෝගික න්‍යෂ්ටික කාරක වන අතර වඩාත්ම පර්යේෂණය කරන ලද සහ ව්‍යවහාරික න්‍යෂ්ටික කාරක වන්නේ ටැල්ක්, මයිකා යනාදියයි.

03 කාබනික

කාබොක්සිලික් අම්ල ලෝහ ලවණ: සෝඩියම් සුචිනේට්, සෝඩියම් ග්ලූටරේට්, සෝඩියම් කැප්‍රොයිට්, සෝඩියම් 4-මෙතිල්වලරේට්, ඇඩිපික් අම්ලය, ඇලුමිනියම් ඇඩිපේට්, ඇලුමිනියම් ටර්ට්-බියුටයිල් බෙන්සොයිට් (අල්-පීටීබී-බීඒ), ඇලුමිනියම් බෙන්සොයිට්, පොටෑසියම් බෙන්සොයිට්, ලිතියම් බෙන්සොයිට්, සෝඩියම් කුරුඳු, සෝඩියම් ap- නැප්තෝට්, ආදිය අතර, බෙන්සොයික් අම්ලයේ ක්ෂාර ලෝහ හෝ ඇලුමිනියම් ලුණු සහ ටර්ට්-බියුටයිල් බෙන්සොයිට් වල ඇලුමිනියම් ලුණු වඩා හොඳ ප්‍රති have ල ඇති අතර භාවිතයේ දීර් history ඉතිහාසයක් ඇත, නමුත් විනිවිදභාවය දුර්වල ය.

පොස්පරික් අම්ල ලෝහ ලවණ: කාබනික පොස්පේට් වලට ප්‍රධාන වශයෙන් පොස්පේට් ලෝහ ලවණ සහ මූලික ලෝහ පොස්පේට් සහ ඒවායේ සංකීර්ණ ඇතුළත් වේ. 2,2'-මෙතිලීන් බිස් (4,6-ටර්ට්-බියුටයිල්ෆෙනෝල්) ෆොස්ෆින් ඇලුමිනියම් ලුණු (NA-21) වැනි. මෙම වර්ගයේ න්‍යෂ්ටික කාරකය හොඳ විනිවිදභාවය, දෘඩතාව, ස් st ටිකරූපීකරණ වේගය ආදියෙන් සංලක්ෂිත වේ, නමුත් දුර්වල විසරණය.

සෝර්බිටෝල් බෙන්සිලයිඩීන් ව්‍යුත්පන්නය: නිෂ්පාදනයේ විනිවිදභාවය, මතුපිට ග්ලොස්, දෘඩතාව සහ අනෙකුත් තාප ගති ලක්ෂණ කෙරෙහි එය සැලකිය යුතු දියුණුවක් ඇති අතර පීපී සමඟ හොඳ අනුකූලතාවයක් ඇත. එය වර්තමානයේ ගැඹුරු පර්යේෂණවල යෙදී සිටින විනිවිදභාවයකි. න්යෂ්ටික කාරකය. හොඳ කාර්ය සාධනයක් සහ අඩු මිලක් සහිතව, එය විශාලතම විවිධත්වය සහ දේශීය හා විදේශීය විශාලතම නිෂ්පාදන හා විකුණුම් සහිත වඩාත් ක්‍රියාශීලීව සංවර්ධනය කරන ලද න්‍යෂ්ටික නියෝජිතයා බවට පත්ව ඇත. ප්‍රධාන වශයෙන් ඩිබෙන්සයිලයිඩීන් සෝර්බිටෝල් (ඩීබීඑස්), දෙකක් (පී-මෙතිල්බෙන්සයිලයිඩීන්) සෝර්බිටෝල් (පී-එම්-ඩීබීඑස්), දෙකක් (පී-ක්ලෝරෝ ආදේශක බෙන්සාල්) සෝර්බිටෝල් (පී-ක්ලබ්-ඩීබීඑස්) යනාදිය ඇත.

ඉහළ ද්‍රවාංකය පොලිමර් න්‍යෂ්ටික කාරකය: වර්තමානයේ ප්‍රධාන වශයෙන් පොලිවිවයිල් සයික්ලොහෙක්සේන්, පොලිඑතිලීන් පෙන්ටේන්, එතිලීන් / ඇක්‍රිලේට් කොපොලිමර් යනාදිය ඇත.

β ස් stal ටික න්‍යෂ්ටික කාරකය:

ඉහළ β ස් stal ටික ආකෘති අන්තර්ගතයක් සහිත පොලිප්‍රොපිලීන් නිෂ්පාදන ලබා ගැනීම මෙහි අරමුණයි. වාසිය වන්නේ නිෂ්පාදනයේ බලපෑම් ප්‍රතිරෝධය වැඩි දියුණු කිරීම, නමුත් නිෂ්පාදනයේ තාප විරූපණ උෂ්ණත්වය අඩු කිරීම හෝ වැඩි කිරීම නොවේ, එවිට බලපෑම් ප්‍රතිරෝධය සහ තාප විරූපණ ප්‍රතිරෝධයේ පරස්පර විරෝධී අංශ දෙක සැලකිල්ලට ගනී.

එක් වර්ගයක් වන්නේ අර්ධ-ප්ලැනර් ව්‍යුහයක් සහිත විලයන මුදු සංයෝග කිහිපයකි.

අනෙක ඔක්සයිඩ, හයිඩ්‍රොක්සයිඩ් සහ ඇතැම් ඩයිකාබොක්සිලික් අම්ලවල ලවණ සහ ආවර්තිතා වගුවේ IIA කාණ්ඩයේ ලෝහ වලින් සමන්විත වේ. පීපී වෙනස් කිරීම සඳහා බහු අවයවයේ විවිධ ස් stal ටික ආකෘතිවල අනුපාතය වෙනස් කිරීමට එයට හැකිය.